Способ производства оксидного сверхпроводника, способ производства проволоки из оксидного сверхпроводника и сверхпроводниковое устройство - RU2006139745A

Код документа: RU2006139745A

Реферат

1. Способ производства материала из оксидного сверхпроводника, причем способ включает следующие стадии:

(a) ионизация материала, содержащего атом для составления оксидного сверхпроводника, в растворе;

(b) путем удаления растворителя с помощью распыления раствора в первой газовой среде с получением порошка, содержащего атом для составления оксидного сверхпроводника; и

(c) охлаждение порошка во второй газовой среде, в которую вводится охлаждающий газ;

причем концентрация диоксида углерода во второй газовой среде ниже, чем в первой газовой среде, которая содержит удаленные компоненты растворителя; концентрация оксида азота во второй газовой среде ниже, чем в первой газовой среде, которая содержит удаленные компоненты растворителя; концентрация водяного пара во второй газовой среде ниже, чем в первой газовой среде, которая содержит удаленные компоненты растворителя.

2. Способ производства материала из оксидного сверхпроводника по п.1, в котором стадия производства порошка включает следующие шаги:

(b1) распыление раствора вместе с распыляющим газом; и

(b2) перенос раствора из первой газовой среды во вторую газовую среду, используя транспортирующий газ;

причем объемный расход всего газа, составленного соединением распыляющего газа, транспортирующего газа и охлаждающего газа, по меньшей мере в 10000 раз больше объемного расхода раствора.

3. Способ производства материала из оксидного сверхпроводника по п.1, в котором стадия производства порошка включает следующие шаги:

(b1) распыление раствора вместе с распыляющим газом; и

(b2) перенос раствора из первой газовой среды во вторую газовую среду, используя транспортирующий газ;

причем концентрация водяного пара во второй газовой среде не более 10 об. %.

4. Способ производства материала из оксидного сверхпроводника по п.1, в котором стадия производства порошка включает следующие шаги:

(b1) распыление раствора вместе с распыляющим газом, и

(b2) перенос раствора из первой газовой среды во вторую газовую среду, используя транспортирующий газ;

причем выполняется соотношение 0,1 (с) ≤ V/(q1+q2) ≤ 20 (с)

где q1 (л/с) - это объемный расход газа первой газовой среды, образованного соединением распыляющего газа и транспортирующего газа,

q2 (л/с) - это объемный расход газа, получаемого из раствора, и

V (л) - это объем первой газовой среды.

5. Способ производства материала из оксидного сверхпроводника по п.1, в котором стадия производства порошка включает следующие шаги:

(b1) распыление раствора вместе с распыляющим газом; и

(b2) перенос раствора из первой газовой среды во вторую газовую среду, используя транспортирующий газ;

причем концентрация водяного пара и в распыляющем газе, и в транспортирующем газе, и в охлаждающем газе не более 1 об. %.

6. Способ производства материала из оксидного сверхпроводника по п.1, в котором стадия производства порошка включает следующие шаги:

(b1) распыление раствора вместе с распыляющим газом; и

(b2) перенос раствора из первой газовой среды во вторую газовую среду, используя транспортирующий газ;

причем концентрация диоксида углерода и в распыляющем газе, и в транспортирующем газе, и в охлаждающем газе не более 30 об. ч./млн.

7. Способ производства материала из оксидного сверхпроводника по п.1, причем способ дополнительно включает шаг термической обработки порошка после шага охлаждения порошка.

8. Способ производства материала из оксидного сверхпроводника по п.7, в котором

(a) далее предусмотрен шаг, на котором порошок охлаждается немедленно после его термической обработки;

(b) и шаг термической обработки порошка, и шаг охлаждения порошка немедленно после его термической обработки проводятся в аппарате термической обработки; и

(c) концентрация водяного пара не более 1 об.% в каждой из следующих газовых сред:

(c1) газовая среда в аппарате термической обработки во время введения порошка в аппарате термической обработки;

(c2) газовая среда в аппарате термической обработки во время термической обработки порошка;

(c3) газовая среда в аппарате термической обработки во время охлаждения порошка; и

(c4) газовая среда в аппарате термической обработки во время извлечения порошка из аппарата термической обработки.

9. Способ производства материала из оксидного сверхпроводника по п.7, в котором

(a) далее предусмотрен шаг, на котором порошок охлаждается немедленно после его термической обработки,

(b) и шаг термической обработки порошка, и шаг охлаждения порошка немедленно после его термической обработки проводятся в аппарате термической обработки; и

(c) концентрация диоксида углерода не более 30 об. ч./млн в каждой из следующих газовых сред:

(c1) газовая среда в аппарате термической обработки во время введения порошка в аппарате термической обработки;

(c2) газовая среда в аппарате термической обработки во время термической обработки порошка;

(c3) газовая среда в аппарате термической обработки во время охлаждения порошка; и

(c4) газовая среда в аппарате термической обработки во время извлечения порошка из аппарата термической обработки.

10. Способ производства материала из оксидного сверхпроводника по п.1, в котором раствор является раствором азотной кислоты.

11. Способ производства проволоки из оксидного сверхпроводника, причем способ включает следующие шаги:

(a) производство материала из оксидного сверхпроводника с использованием способа производства материала из оксидного сверхпроводника, включающего следующие шаги:

(а1) ионизация материала, содержащего атом для составления оксидного сверхпроводника, в растворе;

(а2) получение порошка, содержащего атом для составления оксидного сверхпроводника, путем удаления растворителя с помощью распыления раствора в первой газовой среде; и

(а3) охлаждение порошка во второй газовой среде, в которую вводится охлаждающий газ;

причем концентрация диоксида углерода во второй газовой среде ниже, чем в первой газовой среде, которая содержит удаленные компоненты растворителя;

концентрация оксида азота во второй газовой среде ниже, чем в первой газовой среде, которая содержит удаленные компоненты растворителя;

концентрация водяного пара во второй газовой среде ниже, чем в первой газовой среде, которая содержит удаленные компоненты растворителя;

и (b) производство оксидной сверхпроводящей проволоки с использованием материала из оксидного сверхпроводника.

12. Устройство на оксидных сверхпроводниках, содержащее оксидную сверхпроводящую проволоку, полученную с использованием способа производства оксидной сверхпроводящей проволоки, включающего шаги:

(a) производство материала из оксидного сверхпроводника с использованием способа производства материала из оксидного сверхпроводника, включающего следующие шаги:

(а1) ионизация материала, содержащего атом для составления оксидного сверхпроводника, в растворе;

(а2) получение порошка, содержащего атом для составления оксидного сверхпроводника, путем удаления растворителя с помощью распыления раствора в первой газовой среде; и

(а3) охлаждение порошка во второй газовой среде, в которую вводится охлаждающий газ;

причем концентрация диоксида углерода во второй газовой среде ниже, чем в первой газовой среде, которая содержит удаленные компоненты растворителя;

концентрация оксида азота во второй газовой среде ниже, чем в первой газовой среде, которая содержит удаленные компоненты растворителя;

концентрация водяного пара во второй газовой среде ниже, чем в первой газовой среде, которая содержит удаленные компоненты растворителя;

и (b) производство оксидной сверхпроводящей проволоки с использованием материала из оксидного сверхпроводника.

Авторы

Заявители

СПК: C01G1/00 C01G1/02 C01G3/006 C04B2235/3208 C04B2235/3213 C04B2235/443 C04B2235/6567 C04B2235/661 C04B35/4525 C04B35/6267 C04B35/6268

Публикация: 2008-05-20

Дата подачи заявки: 2006-01-30

0
0
0
0
Невозможно загрузить содержимое всплывающей подсказки.
Поиск по товарам