Композиции ингибиторов образования отложений и способы их применения - RU2017125003A
Код документа: RU2017125003A
Формула
1. Ингибирующий образование отложений полимер, содержащий:
А-мер формулы (I)
и В-мер формулы (II)
где:
каждый R независимо представляет собой гидроксигруппу, необязательно замещенную C1-20алкоксигруппу, необязательно замещенный C1-20оксиалкилен, необязательно замещенную C6-12арилоксигруппу или -OM;
M представляет собой ион металла I группы, ион металла II группы или N(R4)4+;
каждая группа R' представляет собой необязательно замещенную группу C1-20алкила, C6-12арила или C7-12аралкила;
n=1, 2 или 3;
m=0, 1 или 2;
каждый из R1, R2, R3, R4, R5, R6 и R7 независимо представляет собой Н или первый необязательно замещенный углеводородный радикал, имеющий в своем составе от примерно 1 до примерно 20 атомов углерода;
каждый из A1 и A3 независимо представляет собой прямую связь или необязательно замещенный углеводородный радикал, имеющий в своем составе от примерно 1 до примерно 20 атомов углерода;
каждый из J1 и J2 независимо представляет собой Н или необязательно замещенный углеводородный радикал, имеющий в своем составе от примерно 1 до примерно 20 атомов углерода; A2 представляет собой прямую связь или органическую соединительную группу, имеющую в своем составе от примерно 1 до примерно 20 атомов углерода; и
Q представляет собой первый необязательно замещенный углеводородный радикал, имеющий в своем составе от примерно 1 до примерно 20 атомов углерода.
2. Ингибирующий образование отложений полимер по п. 1, где содержание А-мера формулы (I) в мольных процентах составляет от примерно 1% до примерно 99% в пересчете на суммарное количество «меров» в полимере.
3. Ингибирующий образование отложений полимер по п. 1 или 2, где содержание В-мера формулы (II) в мольных процентах составляет от примерно 2% до 40% в пересчете на суммарное количество «меров» в полимере.
4. Ингибирующий образование отложений полимер по п. 1, где R1, R2, R3, R5, R6, R7 представляют собой H; A1 представляет собой прямую связь и A3 представляет собой прямую связь.
5. Ингибирующий образование отложений полимер по п. 1, где R1, R2, R3, R5, R6, R7 представляют собой H; A1 представляет собой -СН2- и A3 представляет собой -СН2-.
6. Ингибирующий образование отложений полимер по п. 4 или 5, где M представляет собой Na+ или NH4+ или любую их комбинацию.
7. Ингибирующий образование отложений полимер по п. 1, где n=3 и m =0.
8. Полимерный продукт реакции полиамина с силановым соединением и с соединением, содержащим гидрофобную часть,
где силановое соединение содержит группу -SiRnR'm и реагирующую с аминами группу;
где каждый R независимо представляет собой гидроксигруппу, необязательно замещенную C1-20алкоксигруппу, необязательно замещенный C1-20оксиалкилен, необязательно замещенную C1-12арилоксигруппу или -OM; n=1, 2 или 3 и m=0, 1 или 2; M представляет собой ион металла I группы, ион металла II группы или N(R4)4+; каждый R4 независимо представляет собой H или C1-6алкил; и каждая группа R' независимо представляет собой необязательно замещенную группу C1-20 алкила, C6-12арила или C7-12аралкила;
где содержащее гидрофобную часть соединение содержит реагирующую с аминами группу и по меньшей мере один необязательно замещенный углеводородный радикал, выбранный из необязательно замещенного C1-20алкилена, необязательно замещенного C7-20аралкила и необязательно замещенного C1-20оксиалкилена; и
где полиамин включает в себя C-мер формулы (III) -
где каждый из R8, R9 и R10 независимо представляет собой Н или C1-6 алкил; A4 представляет собой прямую связь или необязательно замещенный C1-6 алкилен; и J3 представляет собой Н или необязательно замещенный углеводородный радикал, выбранный из групп необязательно замещенного C1-20алкилена, необязательно замещенного C7-20аралкила и необязательно замещенного C1-20оксиалкилена.
9. Полимерный продукт реакции по п. 8, где каждый из R8, R9 и R10 независимо представляет собой H; A4 представляет собой группу -CH2-; и J3 представляет собой H.
10. Полимерный продукт реакции по п. 8 или 9, где силановое соединение представляет собой функциональный галогенсодержащий силан, функциональный эпоксисилан или изоцианатный функциональный силан.
11. Полимерный продукт реакции по п. 8 или 9, где силановое соединение представляет собой глицидоксипропилтриметоксисилан или (5,6-эпоксигексил)триэтоксисилан.
12. Полимерный продукт реакции по п. 8 или 9, где содержащее гидрофобную часть соединение представляет собой 1-бромпропан, пропиленоксид, глицидиловый эфир бутила, 1,2-эпоксидодекан, (2,3-эпоксипропил)бензол или 1,2-эпоксигексан.
13. Способ уменьшения образования кремнийсодержащих отложений в промышленном процессе, для которого характерно образование кремнийсодержащего осадка, включающий в себя введение уменьшающего отложения количества полимера в промышленный технологический поток, причем полимер содержит:
А-мер формулы (I) -
где:
каждый R независимо представляет собой гидроксигруппу, необязательно замещенную C1-20алкоксигруппу, необязательно замещенный C1-20оксиалкилен, необязательно замещенную C6-12арилоксигруппу или -OM;
M представляет собой ион металла I группы, ион металла II группы или N(R4)4+;
каждая группа R' представляет собой необязательно замещенную группу C1-20алкила, C6-12арила или C7-12аралкила;
n=1, 2 или 3;
m=0, 1 или 2;
каждый из R1, R2, R3 и R4 независимо представляет собой Н или первый необязательно замещенный углеводородный радикал, имеющий в своем составе от примерно 1 до примерно 20 атомов углерода;
А1 представляет собой прямую связь или необязательно замещенный углеводородный радикал, имеющий в своем составе от примерно 1 до примерно 20 атомов углерода;
J1 представляет собой H или необязательно замещенный углеводородный радикал, имеющий в своем составе от примерно 1 до примерно 20 атомов углерода;
А2 представляет собой прямую связь или органическую соединительную группу, имеющую в своем составе от примерно 1 до примерно 20 атомов углерода.
14. Способ по п. 13, где полимер дополнительно содержит В-мер формулы (II):
где:
каждый из R5, R6 и R7 независимо представляет собой Н или первый необязательно замещенный углеводородный радикал, имеющий в своем составе от примерно 1 до примерно 20 атомов углерода;
А3 представляет собой прямую связь или необязательно замещенный углеводородный радикал, имеющий в своем составе от примерно 1 до примерно 20 атомов углерода;
J2 представляет собой H или необязательно замещенный углеводородный радикал, имеющий в своем составе от примерно 1 до примерно 20 атомов углерода;
Q представляет собой водород, необязательно замещенный C1-20алкил или необязательно замещенный C1-20оксиалкилен.
15. Способ уменьшения образования кремнийсодержащих отложений в промышленном процессе, для которого характерно образование кремнийсодержащего осадка, включающий в себя введение полимерного продукта реакции в промышленный технологический поток,
где полимерный продукт реакции образуется при реакции полиамина с силановым соединением и с соединением, содержащим гидрофобную часть,
где силановое соединение содержит группу -SiR'mRn и реагирующую с аминами группу;
где каждый R независимо представляет собой гидроксигруппу, необязательно замещенную C1-20алкоксигруппу, необязательно замещенный C1-20оксиалкилен, необязательно замещенную C1-12арилоксигруппу или -OM; n=1, 2 или 3 и m=0, 1 или 2; M представляет собой ион металла I группы, ион металла II группы или N(R4)4+; каждый R4 независимо представляет собой H или C1-6алкил; и каждая группа R' независимо представляет собой необязательно замещенную группу C1-20 алкила, C6-12арила или C7-12аралкила;
где содержащее гидрофобную часть соединение содержит реагирующую с аминами группу и по меньшей мере один необязательно замещенный углеводородный радикал, выбранный из необязательно замещенного C1-20алкилена, необязательно замещенного C7-20аралкила и необязательно замещенного C1-20оксиалкилена; и
где полиамин включает в себя C-мер формулы (III):
где каждый из R8, R9 и R10 независимо представляет собой Н или C1-6 алкил; A4 представляет собой прямую связь или необязательно замещенный C1-6 алкилен; и J3 представляет собой один необязательно замещенный углеводородный радикал, выбранный из группы необязательно замещенного C1-20алкилена, необязательно замещенного C7-20аралкила и необязательно замещенного C1-20оксиалкилена.
16. Способ по пп. 13-15, где промышленный процесс представляет собой технологический поток в способе Байера.
17. Способ по пп. 13-15, где полимер или полимерный продукт реакции вводят в промышленный технологический поток в количестве от примерно 1 части на миллион доли до примерно 500 частей на миллион.
