Ухн-50м установка химического никелирования

Назначение УХН-50М

Установка химического никелирования УХН-50М предназначена для химического никелирования деталей из сталей углеродистой и коррозионностойкой, алюминия, титана, меди и сплавов на их основе с многократным использованием раствора.

Установка УХН-50М обеспечивает покрытие деталей сложной конфигурации, не способствующих образованию газовых "пробок". В отверстиях, каналах, вырезах, на вогнутых участках глубоко профилированных деталей толщина покрытия снижается на 50% в сравнении с наружными поверхностями. В глухих отверстиях d5 - d12 мм и сквозных отверстиях d1,5 - d6 мм толщина покрытия нормируется на глубине одного диаметра.

Установка для химического никелирования УХН-50М предназначена для эксплуатации в зонах умеренно холодного климата в помещениях с принудительной вентиляцией, климатическое исполнение УХЛ, категория размещения 4.

Установка для химического никелирования УХН-50М оригинальное конструктивное решение установок серии УХН - операции нанесения покрытия, корректировка раствора и удаление механических загрязнений осуществляются в одном объеме - позволило снизить в 2 раза расход химикатов, уменьшить энергозатраты, снизить количество вредных стоков.

Преимущества установки УХН-50М: 

• твердость никель-фосфорного покрытия - до 950 кг/мм2, а никель-брома до 1500 кг/мм2;
• высокая антифрикционная и коррозионная стойкость;
• равномерное осаждение покрытия на деталях сложной формы из углеродистой и коррозионностойкой стали, алюминия, титана, меди и сплавов на их основе;
• высокое качество покрытий;
• многократное применение раствора;
• никель-фосфорное покрытие (до 12% фосфора) можно применять взамен хромового.

Установка химического никелирования УХН-50М включает в себя:

• модуль химического никелирования;
• шкаф управления;
• бак для корректировочного раствора. 

Модуль химического никелирования УХН-50М собран на сварном каркасе с регулируемыми опорами. Внутри каркаса размещена ванна-реактор из титана, в которой производится никелирование деталей. Верхняя часть ванны-реактора нагревается ТЭНами, установленными в алюминиевых плитах. Температура нагрева регулируется термодатчиком. Нижняя часть ванны-реактора имеет водяную рубашку для охлаждения раствора и штуцер для слива раствора. В нижней части ванны-реактора помещен катод анодной защиты, предотвращающий никелирование стенок бака (анодом является корпус ванны) и полипропиленовая решетка для улавливания случайно упавших в ванну деталей. В верхней части каркаса закреплен механизм качания, на рейки которого подвешиваются детали. Механизм качания приводится в движение мотор-редуктором с эксцентриком на выходном валу. Подвижные детали механизма качания ограждены кожухами. Кожух является одновременно коробом бортового отсоса. На кожух устанавливается крышка, предохраняющая раствор от испарения и загрязнения атмосферы цеха. Снаружи ванна-реактор закрыта боковыми панелями.

В верхней части ванны закреплены:

• штуцер подачи аммиака;
• штуцер подачи корректировочного раствора;
• датчик уровня жидкости.

Автономно установлены:

• емкость для корректировочного раствора с насосом;
• емкость для жидкого аммиака;
• электрошкаф.

Технические характеристики УХН-50М

* - Размеры ванны-реактора УХН-50М могут быть изменены в случае необходимости.

Примечания:

• Рабочая зона расположена в верхней части ванны-реактора на глубине от 30 до 300 мм.
• Вытесненный габаритной деталью из ванны-реактора раствор удалить до отметки 30 мм от верхнего края.
• Детали с габаритными горизонтальными плоскостями покрывать без качания.
• Допускается на время, не превышающее 10 мин., снижение температуры не более 7°С (при загрузке деталей).
• В процессе никелирования деталей рабочий раствор корректировать добавлением расходуемых компонентов (никеля сернокислого, гипофосфита натрия, тиомочевины). Раствор может использоваться до накопления в нем фосфита натрия (продукта окисления гипофосфита натрия) в количестве 200 г/л, что соответствует 30-ти кратному никелированию партии деталей с общей поверхностью 0,5 м2 на толщину слоя 15 мкм в одной порции раствора. После этого раствор должен удаляться из установки в очистные сооружения.