Во времена Советского Союза для собственных нужд электронной, авиакосмической, атомной промышленности было произведено много установок типа УВН-71 (цилиндрическая камера с вертикальным подъёмом колпака), УВН-74 (цилиндрическая горизонтальная камера с открывающейся круглой фланцевой дверью), РЭ-70, ВУ-1, ВУ-2, Оратория (камера с прямоугольной фланцевой дверью) и пр. Несмотря на то, что данные установки морально (а зачастую и физически) устарели, многие из них используются в современном производстве, а с учётом отлаженных технологических процессов переход на современные установки потребует колоссальных вложений и займёт много времени.
НПО «ГКМП» предлагает создание аналогичных установок с габаритными характеристиками камеры и подколпачной оснастки, полностью идентичными существующим, но при этом оснащённых новейшей автоматизированной системой управления, откачной вакуумной системой, системой контроля параметров процесса напыления. Данные установки заменят имеющиеся без необходимости изменения техпроцесса, а применяемые современные комплектующие и материалы позволят увеличить срок службы и упростить обслуживание и ремонтопригодность. Также возможен вариант глубокой модернизации имеющихся установок, в процессе которого изменению подвергнутся только те системы, замена которых востребована заказчиком.
Характеристики
Наименование параметра | Значение |
Количество камер в установке: | 1 |
Форма рабочей камеры: | цилиндрическая |
Габариты рабочей зоны камеры:
- диаметр, мм: - длина, мм: |
150...600 200...1000 |
Температура подогрева подложек, оС: | 50...400 |
Метод распыления материала: | резистивный нагрев, электронно-лучевой нагрев, ионно-плазменное магнетронное распыление |
Материалы подложек: | металлы, сплавы, керамика, стекло, монокристаллические пластины |
Материалы нанесения: | металлы, сплавы, нитриды, двухкомпонентные соединения |
Толщина наносимого покрытия, мкм: | 0,001...500 (определяется технологией) |
Возможность вакуумной очистки тлеющим разрядом: | имеется |
Возможность последовательного нанесения нескольких покрытий в одном процессе: | имеется |
Типы применяемых откачных систем: | масляная (пластинчато-роторный + диффузионный насосы), безмасляная (сухой спиральный + турбомолекулярный насосы) |
Типы датчиков контроля толщины напыления: | вибрационный, кварцевый, оптический (фотометрический), резистивный, емкостной, комбинированный |
Расположение подложек в камере: | вертикальное, горизонтальное |
Возможность карусельной обработки подложек: | имеется |
Возможность двустороннего нанесения: | имеется |
Возможность нанесения в ограниченном объёме: | имеется |
Подождите, вам будет интересно
Договорная цена